Datum
15. Juni 2021 14:00 - 15:00
14.00 Uhr
EUV-Lithografie: Hochraten-Nanostrukturierung an den Grenzen der Physik
PD Dr. Andreas ErdmannFraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB)
14.25 Uhr
EUV Lithography enabled by High Power CO2 Laser
Dr. Marc HaastASML Holding N.V. 
 
14.50 Uhr
Skalierung der Laser-Mikrobearbeitung von Silizium zu hohen Durchsätzen mit einem 1 kW Sub-Pikosekunden Laser
Daniel HolderInstitut für Strahlwerkzeuge (IFSW), Universität Stuttgart
 
15.15 Uhr
Ultraviolett und ultrakurz: Der Einsatz von Lasern in der Displayproduktion
Kian JanamiTRUMPF Laser- und Systemtechnik GmbH
 
15.40 Uhr
Vorstellung Solution Center
 
ab 15.50 Uhr
Austausch mit den Austellern und Referenten beim Online-Networking Event
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